LK5600光電化學工作站

    光電化學工作站是將光化學與電化學方法合并使用，以研究分子或離子的基態或激發態的氧化還原反應現象、規律及應用的儀器，可用于研究光直接影響電極過程的電化學、用于光能與電能和化學能的轉換測量、光電化學電池的光電轉化測量、光電合成。利用光電化學原理可以富集稀有金屬和貴金屬，又可以記錄和保存信息，還可用簡單的方法隨時消去信息，這些都是發展科學技術所必需的手段。

    LK5600光電化學工作站采用閉環控制技術調節和調制光強和單色光, 從而保證了光源的絕對穩定性. 在儀器匹配的光源內裝有光強傳感器, 工作時系統自動比較并計算測得的實際光強與設定值的偏差并加以校正,這樣就消除了由于光源器件的非線性、老化、以及溫度漂移產生的光強輸出誤差。不僅如此，儀器還允許直接輸入單位為(W/cm2)的具體數值校正光源，非常方便。該工作站負責控制、驅動激發光源，輸出強度調制光信號。

    太陽能電池 (如燃料敏化太陽能電池)、半導體材料，光誘導的化學反應

Fill factor：光電池填充因子效率。
IMPS：強度調制光電流譜。
CIMPS：可控強度調制光電流譜。
IMVS： 強度調制光電壓譜 。
CIMVS：可控強度調制光電壓譜。
IPCE： 光電轉換效率。
PVI： 光致電流電壓特性。
PCS： 光電流譜。
CTF： 交叉傳輸功能研究。
IPCE：轉化效率。透射和吸收研究（以上方法均可用于調制單色光）。

    其他常規的電化學方法

恒電位技術：開路電位&時間測量曲線、單電位階越計時電流法、雙電位階越計時電流法、單電位階越計時電量法、
          雙電位階越計時電量法、恒電位電解庫侖分析法；

線性掃描技術：線性掃描伏安法、循環伏安法、塔菲爾（Tafel）曲線測量、線性掃描溶出伏安法；

脈沖技術：微分脈沖伏安法、微分脈沖溶出伏安法；

方波技術：方波伏安法、方波溶出伏安法(EIS，CV等所有電化學功能)。

 LK5600參數：

氙燈光源參數:

聚焦透鏡焦距調整范圍：0～40 mm;

平行光光斑直徑：38 mm ;

點光源光斑：8 mm;（根據用戶要求可調）

光譜范圍：200～1500nm;

波長重復性：0.1nm;

光譜帶寬：0.054nm～16.2nm;

準確度：0.25nm;

最小步距：0.01nm;

焦面尺寸：寬25mm高10mm;

狹縫：寬度10um~3mm可調;

高度：4mm;

氙燈壽命：1000小時;

氙燈穩流電源參數:

工作電壓：220V  ±10% ;

耗費功率：<350W/800W;

氙燈功率：150W/350W，;

穩流電流調節范圍：5～8A/8-18A;

觸發電壓：>300V;

電流峰值紋波因素：0.075%。

電化學工作站(電化學分析儀)參數:

電位范圍：-10 V～10 V;

電流范圍：±250 mA;

恒電位/恒電流（電位分辨率絕對） 0.01mV；

電流靈敏度 ≤0.01pA；

參比電極輸入阻抗：10¹²Ω;

靈敏度：±10mA～±1nA （8個量程檔位）;

輸入偏置電流：<10 pA ，電位增量：0.01 mV;

掃描速率：0.01mV/S～5000V/S；

低噪聲程控放大1～64倍。
 

工作環境：

1）環境溫度：-15oC ～~ 45 oC
2）環境相對濕度：< 75%
3）儀器四周通風良好，空氣中不含腐蝕性氣體。
4）儀器周圍無強電磁場干擾。
5）電源電壓：AC220V（50Hz）10%。

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